我国的芯片研发目前处于比较先进的水平，但跟国际领先水平还有一定的差距，中国大陆最大的芯片制造企业中芯国际在去年7月就已量产7nm工艺，而Intel还在努力在今年下半年量产7nm工艺，如此一来中国大陆在先进工艺方面已成功超越Intel，这对于美国芯片来说无疑是一大打击。

目前，中国正在解决上一代的90nm9、28nm工艺制程，要发展到7nm、5nm，可能还需要5至10年或更长时间。

中国并不是造不出光刻机，而是目前暂时造不出高端光刻机，比如上海微电子9已经可以造出90nm制程的光刻机，而且据传其将在2021-2022年交付第一台28nm制程9的光刻机，但这相比目前业界最领先的荷兰ASML公司的7nm甚至5nmEUV光刻机，还有很大的差距。现在最高端的旗舰手机的SOC芯片已经是5nm制程，28nm制程不能满足消费市场竞争的需求。

核心的制约让我们落后了，未来一旦我们的高端光刻机做出来了，就意味着我们国家光刻机相关的所有基础科学都已出现重大突破，那我们整个配套的半导体及其相关产业也跻身全球顶级了。

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