美国政府周五公布了一系列全面出口管制措施，其中包括让中国无法获得世界上任何地方使用美国工具制造的某些半导体芯片。

这一系列措施可能是1990年代以来美国对华技术出口政策的最大转变。如果生效，将迫使使用美国技术的美国和外国企业切断对中国部分领先工厂和芯片设计机构的支持。

下文提供了美国此次发布的规则的关键内容，以及BIS正在进行的工作的其他背景，以更新其与中国相关的出口管制方法。

BIS关于先进计算和半导体制造的最新规则，在这两个关键领域解决了美国的国家安全和外交政策问题。首先，该规则对某些高级计算半导体芯片、超级计算机最终用途交易以及涉及实体清单上某些实体的交易实施限制性出口管制。其次，该规则对某些半导体制造项目和某些集成电路(IC)最终用途的交易实施了新的控制。

具体来说，这些规则包括：

1)将某些包含此类芯片的高级和高性能计算芯片和计算机商品添加到商业控制清单(CCL)中;

2.)为在中国进行超级计算机或半导体开发或生产最终用途的项目增加新的许可证要求;

3.)将《出口管理条例》(EAR)的范围扩大到某些外国生产的高级计算项目和用于超级计算机最终用途的外国生产项目;

4.)将受许可证要求限制的外国生产项目的范围扩大到实体名单上位于中国境内的28家现有实体;

这28家实体包括：

1、Beijing Institute of Technology(北京理工大学);2、Beijing Sensetime Technology Development Co., Ltd.(北京市商汤科技开发有限公司);3、Changsha Jingjia Microelectronics Co., Ltd.;(长沙景嘉微)4、Chengdu Haiguang Integrated Circuit(成都海光集成电路);5、Chengdu Haiguang Microelectronics Technology(成都海光微电子科技);6、China Aerospace Science and Technology Corporation (CASC) 9th Academy 772 Research Institute(中国航天科技集团公司第九研究院772研究所);7、Dahua Technology(大华股份);8、Harbin institute of technology(哈尔滨工业大学);9、Higon(海光);10、IFLYTEK(科大讯飞);11、Intellifusion(云天励飞);12、Megvii Technology(旷视科技);13、National Supercomputer Center Zhengzhou(国家超级计算郑州中心);14、National Supercomputing Center Changsha (NSCC-CS)(国家超级计算长沙中心);15、National Supercomputing Center Guangzhou (NSCC-GZ)(国家超级计算广州中心);16、National Supercomputing Center Jinan(国家超级计算济南中心);17、National Supercomputing Center Shenzhen(国家超级计算深圳中心);18、National Supercomputing Center Tianjin (NSCC-TJ)(国家超级计算天津中心);19、National Supercomputing Center Wuxi (NSCC-WX)(国家超级计算无锡中心);20、National University of Defense Technology(国防科技大学);21、New H3C Semiconductor Technologies Co., Ltd.(新华三);22、Northwestern Polytechnical University(西北工业大学);23、Shanghai High-Performance Integrated Circuit Design Center(上海高性能集成电路设计中心);24、Sugon(中科曙光);25、Sunway Microelectronics(申威);26、Tianjin Phytium Information Technology(天津飞腾);27、Wuxi Jiangnan Institute of Computing Technology(无锡江南计算技术研究所);28、Yitu Technologies(依图科技).

5.)在CCL中添加某些半导体制造设备和相关项目;

6.)为中国制造符合规定的IC的半导体制造“设施”增加了新的许可证要求。面向中国实体拥有的半导体制造设施的许可证将面临“拒绝推定”，跨国公司拥有的半导体制造设施将根据具体情况决定。相关阈值如下：

16nm或14nm或以下非平面晶体管结构(即FinFET或GAAFET)的逻辑芯片;

18nm半间距或更小的DRAM内存芯片;

128层或以上NAND闪存芯片。

7)限制美国厂商在没有许可证的情况下支持在某些位于中国的半导体制造“设施”开发或生产集成电路的能力;

8.)对开发或生产半导体制造设备和相关项目的出口项目增加新的许可证要求;

9.)设立临时通用许可证(TGL)，通过允许在中国境内与拟在中国境外使用的物品相关的特定、有限的制造活动，将对半导体供应链的短期影响降至最低。

以上规则在向《联邦公报》提交公众检查后分阶段生效。其中，半导体制造项目限制规则在提交公众检查时生效(2022年10月7日)，限制美国支持在某些位于中国的半导体制造“设施”开发、生产或使用集成电路的规则将在五天后(2022年10月12日)生效，限制高级计算和超级计算机的规则以及其他的规则变更将在14天后(2021年10月21日)生效。

BIS还对未核实名单进行了修订：BIS正在更新其与BIS实体名单相关的法规，以澄清东道国政府持续缺乏合作，这实际上妨碍了BIS确定相关实体是否符合EAR，可能导致相关实体被直接列入实体清单。

该规则提供了一个例子，比如外国政府持续缺乏合作，阻止BIS核实“未经核实名单”(UVL)上公司的真实性，如果最终用途检查没有及时安排和完成，可能导致这些当事实体被直接移至实体清单。实体清单的所有增加、删除或修订仍需经最终用户审查委员会批准，该委员会由美国商务部、国务院、国防部和能源部组成。

目前该规则已经向UVL添加了31家中国实体，并删除了9家满足相关要求的实体。

新增的31个实体包括：

1、Beijing Naura Magnetoelectric Technology(北方华创磁电科技有限公司)2、Beijing PowerMac Company(北京普科测控技术有限公司)3、CCIC Southern Electronic Product Testing Co., Ltd.(中检集团南方电子产品测试股份有限公司)4、Chang Zhou Jin Tan Teng Yuan Machinery Parts Co., Ltd.(常州市金坛腾远机械配件有限公司)5、Institute of Mineral Resources，Chinese Academy of Geological Sciences(中国地质科学院，矿产资源研究所)6、Chinese Academy of Science(CAS)Institute of Chemistry(中国科学院化学研究所)7、Chongqing Optel Telecom(重庆奥普泰通信技术有限公司)8、Chongqing Xinyuhang Technology Co., Ltd.9、Dandong Nondestructive Electronics(丹东市无损检测设备有限公司)10、DK Laser Company Ltd.(湖南大科激光有限公司)11、Foshan Huaguo Optical Co., Ltd.(佛山华国光学器材有限公司)12、GRG Metrology & Test (Chongqing) Co., Ltd.(广电计量检测(重庆)有限公司)13、Guangdong Dongling Carbon Tech. Co., Ltd.(广东东麟碳素科技有限公司)14、Guangxi Yuchai Machinery Co., Ltd.(广西玉柴金兴机械有限公司)15、Guangzhou GRG Metrology & Test (Beijing) Co., Ltd.(广电计量检测(北京)有限公司)16、Jialin Precision Optics (Shanghai) Co., Ltd.(嘉麟精密光学(上海)有限公司)17、Lishui Zhengyang Electric Power Construction(丽水正阳电力建设有限公司)18、Nanjing Gova Technology Co., Ltd.(南京高华科技股份有限公司)19、Ningbo III Lasers Technology Co., Ltd.(恒普(宁波)激光科技有限公司)20、Qingdao Sci-Tech Innovation Quality Testing Co., Ltd.(青岛科创质量检测有限公司)21、Shanghai Tech University(上海科技大学)22、Suzhou Sen-Chuan Machinery Technology Co., Ltd.(苏州森川机械科技有限公司)23、Tianjin Optical Valley Technology Co., Ltd.(天津光谷激光技术有限公司)24、University of Chinese Academy of Sciences(中国科学院大学)25、University of Shanghai for Science and Technology(上海理工大学)26、Vital Advanced Materials Co., Ltd.(广东先导先进材料股份有限公司)27、Wuhan Institute of Biological Products Co., Ltd. (武汉生物制品研究所有限责任公司)28、Wuhan Juhere Photonic Tech Co., Ltd.(武汉聚合光子技术有限公司)29、Wuxi Hengling Technology Co., Ltd.(无锡恒领科技有限公司)30、Xian Zhongsheng Shengyuan Technology Co., Ltd.(西安中盛圣远科技有限公司)31、Yangtze Memory Technologies Co., Ltd.(长江存储科技有限责任公司)

已被删除的9个满足相关要求的实体：

1、Anhui Institute of Metrology(安徽省计量研究所);2、Chuzhou HKC Optoelectronics Technology Co., Ltd.(滁州HKC光电技术有限公司);3、Hefei Anxin Reed Precision Co. Ltd.(合肥安信瑞德精密制造有限公司);4、Hefei Institutes of Physical Science(合肥物质科学研究院);5、Jiutian Intelligent Equipment Co. Ltd.(久天智能装备有限公司);6、Suzhou Gyz Electronic Technology Co. Ltd.(苏州昀冢电子科技股份有限公司);7、Suzhou Lylap Mould Technology Co Ltd.(苏州亮宇模具科技有限公司);8、Wuxi Biologics Co., Ltd.(无锡药明生物技术股份有限公司);9、Wuxi Turbine Blade Co., Ltd(无锡透平叶片有限公司).

根据这一监管变化，美国出口执法部门还发布了一份政策备忘录，解决外国政府防止最终用途检查的问题。该政策要求在请求检查后60天内将各方添加到“未核实名单”中，但东道国政府的不作为阻止了其完成，并且在东道国政府持续缺乏合作以促进完成检查时，在60天之后会将UVL各方直接添加到实体清单中。

公告称，该规则的文本，包括添加和删除的当事人名单，可在美国《联邦公报》网站上查阅。该规则于2022年10月7日生效。

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